机械行业半导体设备研究系列之明暗场缺陷检测设备：一“明”一“暗”检缺陷相辅相成提良率-221209（17页）

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报告摘要

敬请参阅最后一页特别声明-1-证券研究报告2022年12月9日行业研究一“明”一“暗”检缺陷，相辅相成提良率一“明”一“暗”检缺陷，相辅相成提良率半导体设备研究系列之明暗场缺陷检测设备机械行业前道量检测是半导体晶圆制造的关键工序之前道量检测是半导体晶圆制造的关键工序之一，其中明场和暗场检测是重要的检一，其中明场和暗场检测是重要的检测环节，对芯片制造起着至关重要的作用，是提高产品良率、降低生产成本、推测环节，对芯片制造起着至关重要的作用，是提高产品良率、降低生产成本、推进工艺迭代的重要环节，在多个方面存在很大的不同进工艺迭代的重要环节，在多个方面存在很大的不同。根据应用技术的不同，现阶段的前道缺陷检测主要包括电子束检测和光学检测，其中光学检测技术凭借速度快、无接触、非破坏和易于在线集成等优点被广泛应用。常见的光学缺陷检测系统分为明场系统和暗场系统，二者在照明方法、成像原理等方面存在较大差异，相应地，在技术难度上也有一定差别，整体而言明场系统对照明光束物理特征、成像系统、信噪比等方面的要求更加严格。