半导体行业系列专题（四）：光刻机现代工业集大成者亟待国产破局-240228（42页）

报告摘要

半导体行业系列专题（四）光刻机：现代工业集大成者，亟待国产破局光刻机：现代工业集大成者，亟待国产破局证券研究报告2024年22月28日付强投资咨询资格编号：S1060520070001徐勇投资咨询资格编号：S10605190004徐碧云投资咨询资格编号：S1060523070002证券分析师请务必阅读正文后免责条款半导体行业强于大市（维持）陈福栋一般证券从业资格编号：S10601221007研究助理投资要点11光刻是半导体核心工艺，开发难度大，性能指标要求高。光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观，目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArFi、EUV五大类；