半导体行业系列专题（四）：光刻机现代工业集大成者亟待国产破局-240228（42页）

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报告摘要

半导体行业系列专题（四）半导体行业系列专题（四）光刻机：现代工业集大成者，亟待国产破局光刻机：现代工业集大成者，亟待国产破局证券研究报告20242024年年22月月2828日日付强投资咨询资格编号：S1060520070001徐勇投资咨询资格编号：S1060519090004徐碧云投资咨询资格编号：S1060523070002证券分析师证券分析师请务必阅读正文后免责条款请务必阅读正文后免责条款半导体行业半导体行业强于强于大大市（维持）市（维持）陈福栋一般证券从业资格编号：S1060122100007研究助理研究助理投资要点投资要点11光刻是半导体核心工艺光刻是半导体核心工艺，开发难度大开发难度大，性能指标要求高性能指标要求高。光刻机是半导体制造的核心设备，其性能直接决定了芯片的工艺水平，开发难度大，价值量高，市场规模可观，目前市场主流光刻设备有i-line、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类；