半导体设备行业深度报告：半导体射频电源刻蚀+CVD设备的核心国产化替代拐点已至-231218（29页）

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报告摘要

行业深度|机械设备1/29请务必阅读正文之后的免责条款部分机械设备报告日期：2023年12月18日半导体半导体射频电源：射频电源：刻蚀刻蚀CVD设备的设备的核心核心，国产化替代国产化替代拐点拐点已已至至半导体设备半导体设备行业深度报告行业深度报告投资要点投资要点射频电源：射频电源：半导体半导体工艺控制的工艺控制的核心核心，应用于，应用于CVDCVD薄膜沉积薄膜沉积、刻蚀等、刻蚀等核心环节核心环节1)1)什么是射频电源？什么是射频电源？用来产生射频电功率的电源。核心作用核心作用通过产生高频电磁场，将在低压或常压下的气体进行电离、形成等离子体。形成等离子体。从而在腔体内部实现不同的工艺需求。2)2)下游应用下游应用在哪？在哪？半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗等前道工艺机台半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗等前道工艺机台的关键零部件之一的关键零部件之一，与工艺直接相关，与工艺直接相关。射频电源的应用直接关系到腔体中的等离子体浓度、均匀度和稳定度，影响到终端晶圆刻蚀、成膜的质量。