半导体设备行业深度报告：半导体射频电源刻蚀+CVD设备的核心国产化替代拐点已至-231218（29页）

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报告摘要

行业深度|机械设备1/29请务必阅读正文之后的免责条款部分机械设备报告日期：2023年12月18日半导体射频电源：刻蚀CVD设备的核心，国产化替代拐点已至半导体设备行业深度报告投资要点射频电源：半导体工艺控制的核心，应用于CVD薄膜沉积、刻蚀等核心环节1)什么是射频电源？用来产生射频电功率的电源。核心作用通过产生高频电磁场，将在低压或常压下的气体进行电离、形成等离子体。从而在腔体内部实现不同的工艺需求。2)下游应用在哪？半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗等前道工艺机台半导体薄膜沉积、刻蚀、离子注入、清洗等前道工艺机台的关键零部件之一，与工艺直接相关。射频电源的应用直接关系到腔体中的等离子体浓度、均匀度和稳定度，影响到终端晶圆刻蚀、成膜的质量。