半导体行业：掩模版光刻蓝本蓄力国产替代国内成长空间广阔-231021（21页）

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报告摘要

敬请参阅末页重要声明及评级说明证券研究报告掩模版：光刻蓝本蓄力国产替代，国内成长空间广阔Table_IndNameRptType半导体行业研究/深度报告行业评级：增持报告日期：2023-10-21Table_Chart行业指数与沪深300走势比较Table_Author分析师：陈耀波执业证书号：S0010523060001邮箱：Table_Report主要观点：Table_Summary掩模版是微电子制造过程中的图形转移母版，精度和质量会直接影微电子制造过程中的图形转移母版，精度和质量会直接影响下游制品的优品率掩模版由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩模图形，用于选择性地阻挡曝光、辐照或物质穿透，将设计好的芯片电路图通过曝光等工艺转移至下游行业的基板或晶圆上，是微电子制造过程中的图形转移工具或者母版。作为光刻复印图形的基准和蓝本，掩模版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。