国产替代系列四：国产浪潮随风起光刻机行业亟待破局-240412（29页）

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报告摘要

1/292024年年4月月12日日行业行业|深度深度|研究报告研究报告行业研究报告慧博智能投研国产替代系列四：国产浪潮随风起，光刻机国产替代系列四：国产浪潮随风起，光刻机行业亟待破局行业亟待破局光刻机是半导体制造过程中价值量和技术壁垒最高的设备之一。全球光刻机市场规模超230亿美元，ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。目前半导体制造工艺节点缩小至5nm及以下，曝光波长逐渐缩短至13.5nm，光刻技术逐步完善成熟，但是国内光刻机仍明显落后ASML。同时，美国对中国先进制程设备和技术围追堵截，光刻机处于核心“卡脖子”状态。光刻机产业国产替代趋势下，高端光刻机的发展有望获得推动，国内产业链相关企业有望受益。跟随光刻机产业国产替代视角，我们对相关问题展开分析探讨。