国林科技-公司深度报告：国产臭氧发生器领先者半导体装备开创新纪元-231019（63页）

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报告摘要

国产臭氧发生器领先者，半导体装备开创新纪元国产臭氧发生器领先者，半导体装备开创新纪元证券研究报告投资评级：（）报告日期：2023年10月19日买入首次n分析师：吕卓阳nSAC编号：S10523060001S10523060001公司深度报告（）公司深度报告国林科技300786.SZ投资要点国内臭氧发生器龙头公司，助力半导体产业链国产化。国内臭氧发生器龙头公司，助力半导体产业链国产化。臭氧发生器在半导体领域有两大应用，其中臭氧水发生装置主要用于半导体前道工艺环节的湿法清洗，臭氧气体发生装置可用于CVD和ALD等薄膜沉积环节及部分干法清洗环节。当前我国半导体臭氧设备市场主要被美国MKS等外企垄断，由于半导体产业转移及产业安全等要求，未来高端设备不论是整机自研、零部件配套等领域实现国产自主可控乃是大势所趋。公司已实现半导体臭氧设备核心技术突破，生产的臭氧水机产生的臭氧水浓度可达80-150PPm，臭氧气体发生器产生的臭氧气体浓度可达200-300mg/L，均已取得相关专利，产品性能可对标海外龙头。