中微公司-公司深度报告：刻蚀设备国产替代领军者内生外延驱动稳健成长 -230829（39页）

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报告摘要

公司深度|半导体1/39请务必阅读正文之后的免责条款部分中微公司(688012)报告日期：2023年08月29日刻蚀设备国产替代领军者，内生外延驱动稳健成长刻蚀设备国产替代领军者，内生外延驱动稳健成长中微公司中微公司深度报告深度报告投资要点投资要点中国中国刻蚀设备和刻蚀设备和MOCVD设备龙头，设备龙头，逐步拓展薄膜沉积、逐步拓展薄膜沉积、Epi设备设备。公司是国内领先的半导体刻蚀设备及MOCVD设备制造商，逐步向薄膜沉积设备、Epi设备延展。随着国产替代推进及公司产品力提升，公司营收利润快速增长，2022年公司营业收入47.4亿元，同比增长53%，2017-2022年CAGR为37%；实现归母净利润11.7亿元，同比增长16%，2017-2022年CAGR为108%。产品端，公司刻蚀设备已广泛应用于65nm到5nm逻辑和64层、128层3DNAND量产线；MOCVD设备在全球氮化镓基LED设备占据龙头地位，二代MiniLED、MicroLED、功率器件设备积极研发推进；薄膜沉积设备方面，公司已推出用于钨沉积的CVD和ALD设备，并积极推进硅锗外延EPI设备研发。